高精密增材製造3D列印

一•╃◕▩·、高精密增材製造3D列印介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D列印系統││◕。裝置採用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術••，是目前行業極少能實現超高列印精度•╃◕▩·、高公差加工能力的3D列印系統││◕。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統••，將需列印模型分層投影至樹脂液麵••，快速微立體成型••，從數字模型直接加工三維複雜工業樣件││◕。該技術具有成型效率高•╃◕▩·、加工成本低等突出優勢••，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一││◕。

二•╃◕▩·、高精密增材製造3D列印基本引數

光源╃╃│：UV-LED(405nm)

列印材料╃╃│：硬性樹脂•╃◕▩·、耐高溫樹脂•╃◕▩·、韌性樹脂•╃◕▩·、生物相容性樹脂等

光學精度╃╃│：2μm

列印層厚╃╃│：5-20μm

列印尺寸╃╃│：

①模式一╃╃│：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二╃╃│：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三╃╃│：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重複陣列模式）

檔案格式╃╃│：STL

系統外形尺寸╃╃│：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量╃╃│：550kg

電氣要求╃╃│：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三•╃◕▩·、應用領域

nanoArch S130 2μm精度微納3D列印系統可廣泛應用於力學超材料•╃◕▩·、生物醫療•╃◕▩·、微機械結構•╃◕▩·、微流控•╃◕▩·、三維複雜仿生結構等領域││◕。