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摩方精密3D列印

簡要描述↟✘·:摩方精密3D列印是科研級3D列印系統╃☁☁▩,擁有10μm的超高列印精度和10μm的超低列印層厚╃☁☁▩,從而實現超高精度的樣件製作╃☁☁▩,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新╃☁☁▩,為客戶提供好的3D列印服務體驗₪••◕。

  • 產品型號↟✘·:
  • 廠商性質↟✘·:生產廠家
  • 更新時間↟✘·:2021-11-02
  • 訪  問  量↟✘·:454

詳細介紹

品牌自營品牌應用領域醫療衛生,食品,生物產業,電子,製藥
光學精度10μm

一☁₪、摩方精密3D列印產品介紹

nanoArch®是採用PUSL(面投影微立體光刻)技術╃☁☁▩,用於實現高精度多材料微納尺度3D列印的裝置₪••◕。透過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化╃☁☁▩,逐層累加從而完成產品的製作₪••◕。透過一次曝光可以完成一層的製作₪••◕。

科研級3D列印系統╃☁☁▩,擁有超高列印精度和超低列印層厚╃☁☁▩,從而實現超高精度的樣件製作╃☁☁▩,非常適合高校和研究機構用於科學研究及應用創新₪••◕。

 

二☁₪、摩方精密3D列印產品特性

1☁₪、可定製高定位精度的光學系統和運動平臺╃☁☁▩,兩者最高解析度皆可達到20μm₪••◕。

2☁₪、採用影象拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾₪••◕。

3☁₪、透過工藝技術控制╃☁☁▩,實現3D列印成品的表面光滑₪••◕。

4☁₪、光學方面↟✘·:光學實時監控╃☁☁▩,實現自動對焦及曝光補償₪••◕。

5☁₪、軟體系統↟✘·:nanoArch圖形介面控制系統╃☁☁▩,引數埠開放₪••◕。

 

三☁₪、使用環境要求

1☁₪、需避免的場合↟✘·:

垃圾☁₪、灰塵☁₪、油霧多的場所;

震動以及衝擊多的場所;

能觸及藥品和易燃易爆物的場所;

高頻干擾源附近的場所;

溫度會急劇變化的場所;

在CO2☁₪、NOX☁₪、SOX等濃度高的環境中₪••◕。

2☁₪、環境溼度↟✘·:40%-60%

3☁₪、環境溫度↟✘·:25±3℃

4☁₪、電力需求↟✘·:

100-240V/單相/50/60Hz/15A;

供電電網波動↟✘·:<5%;

電網地線符合機房國標要求₪••◕。

 

摩方精密3D列印

 

 

 

 

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